奥普光电：大股东长春光机所正研发45nm-22nm光刻机曝光系统

《科创板日报》12日讯，奥普光电证券部人士向《科创板日报》记者表示，公司目前没有参与光刻机任何研发工作，光刻机曝光系统跟公司主营业务没有关系，大股东长春光机所正在研发45nm-22nm光刻机曝光系统；光刻机曝光系统是光刻机中软硬件一体的关键部件，负责光刻工艺中的对准曝光工序；光刻机曝光系统研发工作属于国家02专项（注：国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”），“可以说曝光系统前进，光刻机才能往前推进，曝光系统是引领着光刻机往前走的。”（记者 张克瑶）